PVD離子鍍膜與真空蒸發鍍膜比較存在的優點

離子鍍膜（PVD 鍍膜）技術其具體的原理主要是指，在真空的環境下，運用大電流、低電壓的電弧放電技術，通過合理運用氣體放電，即可促使靶材迅速蒸發，蒸發氣體與物質均能夠被迅速電離，再通過對電場的加速，從而促使各種反應產物和蒸發物質能夠大量聚集在工件之上。PVD 離子鍍膜因其所具備的各項特點，其與真空蒸發鍍膜比較，存在以下優點：
（1）離子具有較好的繞射性能，可對各種複雜的鍍形狀工件進行處理；
（2）工件與膜層表麵具有較強的結合力，故具有更高的耐磨性和持久性；
（3）其所能夠鍍膜的種類非常繁多；
（4）膜層具有較快的沉積速率，並且有著較高的生產效率；
（5）具有較為穩定的膜層性能，其安全性也非常高。　　
PVD 技術更多的適用於成型、衝壓、拉伸等模具，車刀、鑽頭等刀具以及精密零配件等。在對模具進行塗層技術的處理之後，可促使抗磨力、硬度得到有效提升，同時還可促使摩擦係數降低，從而促使工件的使用壽命得以延長，通常情況下，與未處理過的工件比較，其壽命能夠增加 3-10 倍。截至目前為止，較常見的塗層主要包括：TiCN、CiN等，各種塗層處理技術，其所具備的用途和特性有明顯差異。